1.半導(dǎo)體離子束刻蝕機(jī)的組成

離子束刻蝕機(jī)由真空室、工作臺(tái)、快門(mén)、真空抽氣系統(tǒng)、供氣系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)、電源和  電器系統(tǒng)等主要部分組成。該機(jī)在正常工作時(shí),首先將真空室的壓力抽至2×10-3Pa或更低,再調(diào)節(jié)Ar氣流量,使真空室壓力保持  在1×10-2~2×10-2Pa(如需要輔助氣體,如O2、CH2等,則可按一定比例與之混合),  然后啟動(dòng)離子源各電源,使離子源正常工作,從離子源引出一定能量和密度的離子束被中和器發(fā)射的電子中和后,轟擊工件進(jìn)行濺射刻蝕。工件表面必須預(yù)先制備溝槽的掩膜圖形。這樣裸露部分被刻蝕掉,掩蔽部分被保留下來(lái),從而在工件表面形成所需要的溝槽圖形。

2.真空系統(tǒng)

真空系統(tǒng)有兩套，分別用于預(yù)真空室和刻蝕腔體。預(yù)真空室由機(jī)械泵單獨(dú)抽真空，只有在預(yù)真空室真空度達(dá)到設(shè)定值時(shí)，才能打開(kāi)隔離門(mén)，進(jìn)行傳送片。刻蝕腔體的真空由機(jī)械泵和分子泵共同提供，刻蝕腔體反應(yīng)生成的氣體也由真空系統(tǒng)排空。

離子刻蝕機(jī)真空泵-愛(ài)德華真空泵（Edwards）